Kapacitatīvā skārienekrānā projekcijas tipa produktu izstrāde rit pilnā sparā. Kā aprakstīts 2. nodaļā, tas atšķiras no rezistīviem skārienekrāniem. Ja netiek izmantots caurspīdīgs vadošs stikls, tas tiek izgatavots, savienojot vairākas caurspīdīgas vadošās plēves. Tāpēc starp kapacitatīvo skārienekrānu nav gaisa slāņa, kas var ievērojami samazināt saskarnes atstarošanos, tādējādi izvairoties no traucējumu bārkstīm un atspīduma problēmas, tāpēc tam ir izcila optiskā veiktspēja. Šajā posmā, lai gan tas nav piemērots teksta ievadei, tas var realizēt daudzpunktu ievades darbības.
Tas realizē pieskārienu, nosakot caurspīdīgā elektroda elektriskā daudzuma maiņu. Caurspīdīgais elektrods tiek izgatavots, savienojot vairākas caurspīdīgas vadošas plēves kopā caur lipīgu slāni, kas tiek pabeigts ar laminēšanas tehnoloģiju. Tāpēc ir īpaši svarīgi novērst ITO plēves un daļas bez ITO plēves atšķirīgo lasāmību, izmantojot dizainu. Vispārīgi runājot, pēc modeļa modeļa veidošanas ir svarīgi arī nomākt ITO plēves un daļas atstarošanu bez ITO plēves un krāsu atšķirību starp pārraidi un atstarošanu. Skārienekrānam jāapsver arī ahromatizācija. Lai tuvinātos stikla krāsai, dūmaka ir jāsamazina. Turklāt, tā kā tiek izmantots līmes slāņa laminēšanas process, ir svarīgi arī saglabāt caurspīdīgās vadītspējas un līmes slāņa konsistenci.
Analogs rezistīvs skārienekrāns, var realizēt teksta ievadi. Caurspīdīgās vadošās plēves pretestības vienveidība plaknē ievērojami ietekmē spēju pareizi ievadīt rakstzīmes. Virsmas pretestība, ko izmanto, lai simulētu rezistīvu skārienekrānu, parasti ir 200 ~ 10001V□. Ņemot vērā skārienekrāna noteikšanas precizitāti un enerģijas patēriņu, pretestības vērtība aptuveni 500(1/□) ir ideālākā.
ITO plēves ražošana galvenokārt tiek veikta, izmantojot sputtering procesu fiziskā tvaiku nogulsnēšanās. Sputtering plēves veidošanās ir metode, kurā inerto gāzi jonizē vakuuma izlāde vakuuma ierīcē, un joni tiek paātrināti elektriskā lauka iedarbībā, lai bombardētu mērķi, un mērķa daļiņas, kas izsvītro, lido uz substrātu, veidojot plānu plēvi. Sputtering plēvei ir laba vienveidība un ilgtermiņa stabila kvalitāte, kas ir piemērota ilgtermiņa masveida ražošanai. Pretestības vērtības vienveidība ir īpaši svarīga analogiem rezistīviem skārienekrāniem, tāpēc švīkstoša plēves veidošanās ir vispiemērotākā šāda veida caurspīdīgas vadošās plēves izgatavošanai.
ITO līnijas pretestība uz plānās plēves substrāta parasti ir 3 x 1CT4? 1 x 10_311 • cm. Plānu plēves substrātu priekšrocības ir laba elastība, plānums, izturība pret bojājumiem un zemas izmaksas. Trūkums ir tas, ka pieļaujamais temperatūras diapazons ir mazs, kas ierobežo ITO plēves veidošanās procesu. PET plēves pieļaujamā temperatūra ir vairāk nekā 100 grādi pēc Celsija. Nogulsnētās ITO plēves kristāliskums šajā temperatūrā nav labs, kas tieši ietekmē ITO plēves veiktspēju. Lai pārvarētu iepriekš minētos trūkumus, tika izstrādāts zemas temperatūras amorfs ITO plēves process, un pēc tam tika izmantots atkausēšanas process, lai pārkristalizētu, lai pabeigtu augstas veiktspējas ITO filmu ražošanu.
